首頁(yè) > 顯微鏡 > 掃描探針顯微鏡 > 晶圓翹曲及應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)


晶圓翹曲及應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)

SKU: FM-SWM

產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

   1.晶圓全場(chǎng)三維翹曲及納米輪廓測(cè)量

   2.晶圓薄膜應(yīng)力測(cè)量

   3.晶圓宏觀缺陷及薄膜均勻性成像

檢測(cè)對(duì)象:

   拋光晶圓(硅、砷化鎵、碳化硅等),

   圖形化晶圓,鍵合晶圓,封裝晶圓

面向行業(yè):

  半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)企業(yè),

  半導(dǎo)體制程工藝開(kāi)發(fā)

技術(shù)參數(shù)

 技術(shù)參數(shù):

非接觸式全場(chǎng)晶圓翹曲測(cè)量

測(cè)量對(duì)象:拋光晶圓,圖形化晶圓 (圓形,方型,開(kāi)孔等)

均勻全口徑采樣,最小采樣間隔:0.1mm

檢測(cè)口徑 2 - 8 /12 寸全口徑 (可根據(jù)需求調(diào)整)

自動(dòng)輸出三維輪廓,曲率,薄膜應(yīng)力,以及表面瑕疵

測(cè)量無(wú)需晶圓調(diào)平,單次測(cè)量時(shí)間:10-30s (隨采樣間隔變化)

三維翹曲

晶圓翹曲量范圍: 200nm - 10mm (根據(jù)晶圓尺寸)

輪廓測(cè)量局部分辨率:20nm

輪廓測(cè)量重復(fù)精度:100nm

低頻-高頻翹曲軟件分析

薄膜表面檢測(cè)

瑕疵檢測(cè):裂紋,麻點(diǎn),不均勻

裂紋分辨率:50um (分辨率可根據(jù)用戶需求調(diào)整)

薄膜應(yīng)力測(cè)量

測(cè)量范圍:2MPa 5000MPa

重復(fù)性:2MPa

相對(duì)精度:1%

樣品溫度范圍:室溫—300

測(cè)量實(shí)例:

1、8 寸圖形化晶圓翹曲三維測(cè)量

應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)1.jpg 應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)2.jpg

 

2、表面瑕疵成像

表面瑕疵成像.jpg

 


相關(guān)產(chǎn)品

FM-AR532/AR785原子力顯微鏡與激光拉曼光譜儀一體機(jī)
FM-AR532/AR785原子力顯微鏡與激光拉曼光譜儀一體機(jī)
對(duì)納米材料表面形貌、顆粒度、粗糙度和拉曼光譜性能進(jìn)行表征、分析
FM-Nanoview1000AFM 分體式原子力顯微鏡
FM-Nanoview1000AFM 分體式原子力顯微鏡
帶光學(xué)定位的CCD觀測(cè)系統(tǒng),實(shí)時(shí)觀測(cè)與定位探針樣品掃描區(qū)域
FM-Nanoview6800一體式原子力顯微鏡
FM-Nanoview6800一體式原子力顯微鏡
開(kāi)啟全民原子力顯微鏡時(shí)代,掃描范圍更廣,定位更精確
自由曲面三維面型檢測(cè)系統(tǒng)
自由曲面三維面型檢測(cè)系統(tǒng)

原子力顯微鏡(環(huán)境控制型)FM-Nanoview EC-AFM
原子力顯微鏡(環(huán)境控制型)FM-Nanoview EC-AFM

原子力顯微鏡光學(xué)一體機(jī)  FM-Nanoview Op-AFM
原子力顯微鏡光學(xué)一體機(jī) FM-Nanoview Op-AFM



首頁(yè) > 顯微鏡 > 掃描探針顯微鏡 > 晶圓翹曲及應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)
頁(yè)面執(zhí)行0.083217 秒